日光温室不同类型起垄内嵌式基质栽培垄冬季温热变化及甜椒苗期生长比较

• 作者: 傅国海 刘文科 杨其长
• 来源期刊: 中国农业大学学报
• 学科: 农学
• 关键词: 日光温室 SSC垄 根区温度 热通量 甜椒幼苗生长
• 年，卷（期）: 2017,（10）
• 页码范围: 103-112
• 页数: 10页
• 分类号: S625.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.11841/j.issn.1007-4333.2017.10.12

摘要

为对比不同类型起垄内嵌式基质栽培垄的温热性能,设置处理1为梯形土垄(T1),底宽40 cm,高15 cm;处理2为栽培槽(基质)宽度减小一半SSC垄(T2),底宽为35 cm;处理3为槽体全嵌入(15 cm)地平表面的SSC垄(T3),高度为0 cm;处理4为半嵌入(5 cm)地平表面的SSC垄(T4),高度为10 cm;处理5为外侧无土包被的单一裸槽垄(T5),宽度为10 cm;处理6为标准SSC垄(T6),规格与土垄一致.分别探究了宽度差异(T1、T2、T5和T6)和嵌入深度差异(T3、T4、T5和T6)栽培垄的根区温热变化特征及其甜椒苗生长情况.结果表明,宽度差异的栽培垄中,T6根区抵御环境低温的能力最强,最低温度分别比T1、T2和T5高0.55、1.27和1.33℃.T6的侧面和垂直方向上的热量传递较为缓慢和持久,能够蓄积更多的热量.嵌入深度和土壤包被差异的栽培垄中,T5抗低温能力最弱,T6抗低温能力最强,最低温度分别比T3、T4和T5高0.44、0.84和1.55℃.T3根区温度的稳定性较强.相对的,T3侧面和垂直方向上的根区热量传递缓慢,T5热量传导最为剧烈,T6在2个方向上的吸热时间较长.此外,宽度差异栽培垄中,T2、T5和T6甜椒幼苗生长优于T1,且T6最优;嵌入深度和土壤包被差异栽培垄中,T5甜椒幼苗的生长比其他处理差,T3和T6甜椒的各项指标差异不显著,但T6更有优势.总之,T6抗低温的能力比其他处理强,能够有效蓄积热量并且减缓热量散失,为冬季日光温室甜椒幼苗生长创造良好的根区温度条件,促进甜椒幼苗的生长.