起垄内嵌式基质栽培垄规格对根区温度和甜椒生长的影响

• 作者: 刘文科 张玉彬 李宗耕 杨其长 查凌燕
• 来源期刊: 河北农业大学学报
• 关键词: 日光温室 起垄内嵌式 根区温度 垄规格 甜椒
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 页码范围: 52-57
• 页数: 6页
• 分类号: S625.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13320/j.cnki.jauh.2018.0125

摘要

为了明确起垄内嵌式基质栽培不同垄规格的温热性能,在日光温室中进行大田试验,以土垄(T0)为对照,设置了窄垄(T1)、窄垄黑膜(T2)、矮垄(T3)、垫高垄(T4)和标准垄(T5)5种处理,探究栽培垄高度、宽度和覆膜类型对根区温热以及甜椒生长的影响.试验结果表明:黑色地膜的增温效果较差,昼夜平均温度较白色地膜低1.0℃左右;高度对根区温度变化的影响表现为:白天高温时段高度越高温度越高,夜间则相反;宽度对根区温度变化的影响表现为:白天时宽度越宽根区温度越低,夜间相反.虽然各处理根区温度日变化存在一定的差异,但昼夜平均温度均在17.5～19.0℃,彼此间温差在1.0℃左右.栽培垄的高度、宽度和覆膜类型对甜椒的株高、茎粗和SPAD值影响差异不显著,但与对照组相比,试验组各处理的产量均有所提高,并以T3矮垄处理产量最高为6.1 kg/m2,比T0产量提高了90.6％.综上所述,在相同的滴灌水平下,垄规格的改变对根区温度影响较弱,与对照相比,以T3处理对甜椒产量提升效果最为显著,生产性能最佳,故在日光温室生产中矮垄具有更好的应用前景.