改性抛光剂对光学玻璃抛光质量的影响

• 作者: 朱健强 梁尚娟 汤文龙 焦翔
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 材料 表面活性剂 化学机械抛光 光学玻璃 材料去除率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 124-130
• 页数: 7页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201744.1203001

摘要

为了抑制抛光粉纳米颗粒的团聚,改善抛光液的性能,使光学玻璃获得更高的抛光速率与更低的表面粗糙度,在氧化铈抛光液中添加阴离子表面活性剂梅迪兰,研究了梅迪兰质量分数对抛光液中粒子粒径、分散性以及材料去除率和抛光后光学玻璃表面粗糙度的影响.结果表明:微量梅迪兰能显著改善抛光液中粒子的分散性,抑制纳米粒子的团聚,提高抛光液的质量;当梅迪兰质量分数为0～0.32％时,随着质量分数增大,化学机械抛光速率先增大后减小,当质量分数为0.26％时达到最大值122 nm/min;玻璃的表面粗糙度随着梅迪兰质量分数增加而先减小后增大,在质量分数为0.13％时达到最小值0.928 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱健强	中国科学院上海光学精密机械研究所	147	1132	17.0	31.0
2	焦翔	中国科学院上海光学精密机械研究所	12	1	1.0	1.0
3	梁尚娟	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0
4	汤文龙	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0