镁合金微弧氧化中电源脉冲宽度的作用

• 作者: 冯毅 蒋成燕 贾金龙 龚成功
• 来源期刊: 机械研究与应用
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 脉冲宽度
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 应用与试验
• 页码范围: 96-98
• 页数: 3页
• 分类号: TG174
• 语种: 中文
• DOI: 10.16576/j.cnki.1007-4414.2017.03.030

摘要

为研究带放电回路的微弧氧化电源脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响,设计了频率为500 Hz条件下,占空比为20%、40%、80%时的镁合金微弧氧化实验.研究发现,随着脉冲宽度的增加,膜层表面孔洞数量减少且孔径尺寸略有增大;微弧氧化的成膜效率随着脉冲宽度的增加而增大;在占空比40%左右时成膜效率最高,且膜层质量较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯毅	兰州工业学院材料工程学院	10	33	3.0	5.0
2	贾金龙	兰州工业学院材料工程学院	11	17	2.0	3.0
3	蒋成燕	兰州工业学院材料工程学院	7	6	2.0	2.0
4	龚成功	兰州工业学院材料工程学院	10	9	2.0	2.0