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摘要:
针对投影光刻的特点,研究了一种基于扫描反射镜调制和三角测量原理的调焦调平系统.该系统遵循向甫鲁(SC)成像条件,并通过检测投影光斑相对于探测狭缝的位移量衡量硅片面的离焦量.同时,利用扫描反射镜的光学载波调制,提高系统的抗干扰能力.实验结果表明:系统拥有纳米(nm)级的测量精度,且具有采样频率高、非接触、多光斑布局方便等特点.
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文献信息
篇名 基于扫描反射镜调制的调焦调平系统测试方法研究
来源期刊 传感器与微系统 学科 物理学
关键词 调焦调平 扫描反射镜调制 纳米级测量 三角测量原理
年,卷(期) 2017,(10) 所属期刊栏目 研究与探讨
研究方向 页码范围 45-47
页数 3页 分类号 O435
字数 1466字 语种 中文
DOI 10.13873/J.1000-9787(2017)10-0045-03
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 庄亚政 上海交通大学电子信息与电气工程学院 1 2 1.0 1.0
5 齐景超 1 2 1.0 1.0
6 陈小娟 1 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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2020(2)
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研究主题发展历程
节点文献
调焦调平
扫描反射镜调制
纳米级测量
三角测量原理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
传感器与微系统
月刊
1000-9787
23-1537/TN
大16开
哈尔滨市南岗区一曼街29号
14-203
1982
chi
出版文献量(篇)
9750
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