磁共振灌注成像注射流率对脑各感兴趣区rCBV、rCBF、MTT的影响

• 作者: 王保奇
• 来源期刊: 中国数字医学
• 学科: 医学
• 关键词: 磁共振灌注成像 注射流率 rCBV rCBF MTT
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 数字医学基础研究与应用
• 页码范围: 31-33
• 页数: 3页
• 分类号: R445.2
• 字数: 1957字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-7571.2017.2.011

摘要

目的:通过研究磁共振灌注成像(PWI)注射流率对脑各感兴趣区(ROI)相对脑血容量(r CBV)、相对脑血流量(r CBF)、平均通过时间(MTT)的影响,以探讨最佳注射流率.方法:选取医院神经内科短暂性脑缺血(TIA)PWI检查病人150例,以3、4、5mL/s注射流率分为A、B、C组,各50例,分析脑各感兴趣区峰值时间(time to peak,TTP)与r CBV、r CBF、MTT的关系.结果:各感兴趣区r CBV、r CBF由高至低分别为B、A、C组,P<0.05.MTT延迟程度由大至小分别为C、A、B组,P<0.05.A、B组对比剂局部外渗发生率明显低于C组,P<0.05.TTP与r CBV、r CBF呈正相关,MTT呈负相关(P<0.05).结论:PWI中采用4mL/s注射流率有助于产生良好的静脉团注效果,不仅满足诊断需求,且降低对比剂局部外渗风险,值得临床推广应用.