双氦离子化气相色谱仪分析四氟化硅气体中微量杂质

• 作者: 张建刚 肖超 陈学航 陈烨 高文龙
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 化学
• 关键词: 四氟化硅 氟代烷 C2~C3碳氢化合物 双通道氦离子化气相色谱(PDHID)
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 1985-1990
• 页数: 6页
• 分类号: TQ264.1|O657.7
• 字数: 3102字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种利用双通道氦离子化气相色谱仪(PDHID),分析四氟化硅中微量硅烷、磷烷、氟代烷、C2～C3碳氢化合物以及常见气体杂质的方法.由于四氟化硅具有很强的腐蚀性,在对其进行分析时,利用阀切割系统将大量的四氟化硅主要成分切割,及时地将四氟化硅反吹出去,使其不进入检测器系统.经过将四氟化硅气体进样检测验证,该方法能够有效测定四氟化硅气体中多种微量杂质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈烨	贵州大学化学与化工学院	19	168	6.0	12.0
2	张建刚		16	32	3.0	5.0
3	高文龙		10	28	3.0	5.0
4	陈学航		5	9	1.0	3.0
5	肖超		5	8	1.0	2.0