外加静磁场下片状FeSiAl复合材料的干扰抑制性能

• 作者: 唐章宏 廖阴 王群 金鑫
• 来源期刊: 安全与电磁兼容
• 关键词: FeSiAl复合材料 扁平化 近场去耦 传输功率损耗比
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: EMC材料应用
• 页码范围: 63-67
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

通过球磨工艺将FeSiAl粉末扁平化,以PVB为粘结剂,利用流延法制备片状FeSiAl复合材料干扰抑制片.分析流延过程中外加静磁场对样品形貌的影响;搭建同侧去耦比、异侧去耦比及传输功率损耗比三种测量体系,分析样品的干扰抑制性能.结果表明,外加静磁场使得片状FeSiAl颗粒长轴方向沿磁力线有序分层排列,有效提升复合材料的干扰抑制性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王群		96	1079	17.0	30.0
2	唐章宏		29	98	6.0	9.0
3	廖阴		1	0	0.0	0.0
4	金鑫		7	24	2.0	4.0