基于通带扩展的超宽带减反射膜制备技术

• 作者: 史成浡 孙亚威 张金豹 王明慧 耿浩
• 来源期刊: 光电技术应用
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 减反射膜 通带扩展 周期
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 光电器件与材料
• 页码范围: 25-30
• 页数: 6页
• 分类号: O436
• 字数: 4466字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1255.2018.04.006

摘要

现代综合性光学仪器往往是一机多用,光学系统的工作波段可能要覆盖紫外、可见、微光、近红外、短波红外甚至中、远红外等.这样的光学系统往往比较复杂,涵盖光学零件类型较多,镜面累计光能损失、杂散光现象严重,光能的损失及杂散光的传播,造成了像的亮度降低,像的衬度降低,像的分辨率下降,为了获得良好的光学系统性能,需要在其光学零件表面镀制超宽带减反射膜.而这种膜系通常需要较多的层数和较多种膜料的组合才能实现,设计和镀制难度都很大.文中提出了一种利用通带扩展方法设计超宽带减反射膜,选用Ta2O5、SiO2两种膜料组合,实现了0.42～0.9μm,Rave≤1.6％,1.064±0.01μm,Rave≤1％,1.57±0.01μm,Rave≤1％,超宽光谱区域减反射效果,镀制膜层质量满足JB/T8226.1-1999检测标准.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张金豹		6	2	1.0	1.0
2	王明慧		6	2	1.0	1.0
3	耿浩		6	2	1.0	1.0
4	史成浡		6	2	1.0	1.0
5	孙亚威		5	2	1.0	1.0