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摘要:
采用阴极弧蒸发沉积设备在WC-6%Co(质量分数)基体上制备AlTiN,AlTiN-Cu和AlTiN/AlTiN-Cu涂层.采用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层表面形貌和截面形貌,利用X线衍射仪(XRD)检测涂层的相结构.采用Tafel极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)方法,研究这3种涂层硬质合金在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的电化学行为,比较这3种涂层的耐腐蚀性能.研究结果表明:Cu的加入使AlTiN涂层表面液滴增多,但减小晶粒粒度,使涂层结构更加致密,孔隙率减小;与硬质合金基体相比,AlTiN,AlTiN-Cu和AlTiN/AlTiN-Cu涂层硬质合金的自腐蚀电流(icor)分别降低40%,80%和93%,电荷转移电阻(Rct)分别提高2.91,3.72和7.85倍,耐腐蚀性能大大提高;3种涂层耐腐蚀能力从强到弱依次为AlTiN/AlTiN-Cu,AlTiN-Cu和AlTiN.
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文献信息
篇名 AlTiN,AlTiN-Cu和AlTiN/AlTiN-Cu涂层的组织结构与耐腐蚀性能
来源期刊 中南大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 涂层硬质合金 AlTiN-Cu AlTiN/AlTiN-Cu Tafel极化曲线 电化学阻抗谱 孔隙率
年,卷(期) 2018,(2) 所属期刊栏目 矿业工程? 冶金工程? 环境工程? 化学与化学工程? 材料科学与工程
研究方向 页码范围 316-322
页数 7页 分类号 TG174.4
字数 4712字 语种 中文
DOI 10.11817/j.issn.1672-7207.2018.02.008
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节点文献
涂层硬质合金
AlTiN-Cu
AlTiN/AlTiN-Cu
Tafel极化曲线
电化学阻抗谱
孔隙率
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