C量子点修饰BiVO4纳米片的制备及可见光裂解水性能的增强

• 作者: 周强 寇佳慧 彭枫萍 许仲梓 陆春华
• 来源期刊: 南京工业大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: BiVO4 C量子点 光催化
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 页码范围: 1-6,33
• 页数: 7页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3015字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7627.2018.02.001

摘要

通过在BiVO4水热合成过程中改变形貌控制剂乙二胺四乙酸(EDTA)或十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),调节BiVO4的形貌,暴露活性晶面.加入葡萄糖,引入C量子点(CQDs),进一步提高其可见光催化裂解水性能.用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)和X线衍射仪(XRD)分别对样品进行形貌与物相结构的表征.结果表明:当形貌控制剂为EDTA时,C量子点修饰的暴露活性晶面的BiVO4纳米片被成功合成,该纳米片宽度为0.7~10 μm,厚度约为100 nm;当葡萄糖的量为1 g时,所制得样品具有很强的可见光催化性能,是没有C量子点修饰样品的7倍.