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导电玻璃作为基底制备WO3纳米片薄膜,通过改变旋涂BiVO4次数,以WO3纳米片薄膜为基底成功制得不同厚度的WO3/BiVO4复合薄膜样品。利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)等分析方法对样品进行表征,并对WO3/BiVO4复合薄膜样品进行吸收光谱、光电流、光电催化和交流阻抗测试。结果表明:WO3/BiVO4复合薄膜样品的光电流密度和光电催化降解效率相较于单一WO3纳米薄膜都得到了提高,具有更好的光电化学性能。且旋涂两次BiVO4的WO3/BiVO4复合薄膜样品有最高的光电流密度值(1.79 mA/cm2)和光电催化降解效率(约为60.5%),比单一WO3材料的光电流密度(1.30 mA/cm2)提高了27.4%,光电催化降解效率也比单一WO3材料的光电催化降解效率(约为47.9%)提升了26.3%,具有最优异的光电化学性能。
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文献信息
篇名 WO3/BiVO4复合薄膜的制备及其 光电化学性能
来源期刊 材料工程 学科 其他
关键词 WO3 BiVO4 光电流 光电催化
年,卷(期) 2023,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 124-130
页数 7页 分类号
字数 语种 中文
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WO3
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材料工程
月刊
1001-4381
11-1800/TB
大16开
北京81信箱-44分箱
1956-05-01
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