介电层表面纳米织构化及其电润湿行为影响研究

• 作者: 崔学良 祝锡晶 郭少豪 魏慧芬 黎相孟
• 来源期刊: 中北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 介电层 表面织构化 刻蚀 软压印 纳米织构 电润湿
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 机械与动力工程
• 页码范围: 282-288
• 页数: 7页
• 分类号: TB13
• 字数: 3737字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-3193.2018.03.007

摘要

为了更好地调控液滴的形状,探讨了纳米织构化介电层表面的电润湿行为.采用刻蚀和软压印方法在导电基底上实现了紫外光固化聚合物(NOA61)介电层的纳米织构;搭建了实验平台,观察对比了厚度相同而形貌不同的介电层表面的电润湿响应.结果表明,平整光滑介电层在电压较低时表现为不可逆的电润湿响应,当方波电压大于200 V时则表现为可逆的电润湿响应;网格纳米织构介电层的可逆转变临界电压为350 V,而纳米锥织构介电层则在高达500 V以上直至产生接触角饱和现象也仍保持不可逆的电润湿响应;几种介电层的饱和接触角趋于一致.之所以水滴在纳米织构化的介电层表面发生了不可逆的 Wenzel 接触模式润湿转变,是由于水滴在电场下与织构微观表面之间具有较高的粘滞作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祝锡晶	中北大学机械工程学院	137	499	10.0	15.0
2	崔学良	中北大学机械工程学院	12	25	3.0	5.0
3	黎相孟	中北大学机械工程学院	14	5	2.0	2.0
4	郭少豪	中北大学能源动力工程学院	3	3	1.0	1.0
5	魏慧芬	中北大学科学技术研究院	5	0	0.0	0.0