Rubbing Mura产生机理及改善研究

• 作者: 李伟 杨德波 王云志 罗春 钟野 陶雄
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: Rubbing Mura HADS产品 Rubbing弱区 工艺条件
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 469-474
• 页数: 6页
• 分类号: TN141.9
• 字数: 2085字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20183306.0469

摘要

Rubbing Mura是以接触式摩擦工艺生产TFT LCD产品时常见的顽固缺陷,尤其在HADS产品上不良发生率更高.本文对Rubbing Mura产生的原因及机理进行分析,发现该不良由TFT基板上的源极线(Source Data,SD)附近的Rubbing弱区漏光引起.研究了Rubbing强度(Nip值)、Rubbing布型号、Rubbing布寿命、黑矩阵(Black Matrix,BM)加宽和SD减薄对HADS产品的Rubbing Mura的影响,选择最优的工艺条件,Rubbing Mura的不良发生率由2.4％降至0％,改善效果明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨德波		5	3	1.0	1.0
2	王云志		3	5	2.0	2.0
3	陶雄		3	4	1.0	2.0
4	李伟		5	4	1.0	2.0
5	钟野		6	6	2.0	2.0
6	罗春		3	5	2.0	2.0