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美术馆照明质量与评估体系聚焦
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作者:
艾晶
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篇名
美术馆照明质量与评估体系聚焦
来源期刊
照明工程学报
学科
关键词
年,卷(期)
2018,(5)
所属期刊栏目
本期导读
研究方向
页码范围
前插1-前插2
页数
1页
分类号
字数
2556字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-440X.2018.05.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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1
艾晶
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2.0
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
照明工程学报
主办单位:
中国照明学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-440X
CN:
11-3029/TM
开本:
16开
出版地:
北京市朝阳区大北窖南厂坡甲3号南楼二层
邮发代号:
80-436
创刊时间:
1992
语种:
chi
出版文献量(篇)
3076
总下载数(次)
7
总被引数(次)
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