正向电压对氢化锆微弧氧化阻氢膜层性能的影响

• 作者: 张鹏飞 李世江 王宏兴 耿艳花 闫淑芳 陈伟东
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氢化锆 微弧氧化 正向电压 阻氢渗透层
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 793-797
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 2816字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15541/jim20170328

摘要

在偏铝酸钠-氢氧化钠-EDTA混合溶液中,采用恒压模式对氢化锆表面进行微弧氧化处理.借助场发射扫描电镜(FE-SEM)、X射线衍射仪(XRD)及真空脱氢实验,研究了不同正向电压(350~425 V)对微弧氧化膜层表面、截面、相结构及阻氢渗透性能的影响.分析结果表明:微弧氧化过程大致由阳极氧化、火花放电、微弧氧化和熄弧四个阶段组成.制备的膜层分为致密层和疏松层,致密层所占比例约为80%.随着正向电压的增大,晶粒尺寸增大,晶面间距减小,氢化锆表面微弧氧化膜层厚度由122μm增加至150μm,膜层的增长速度也随正向电压的增大而加快.但正向电压的改变对膜层的相结构并无显著影响,膜层由单斜相氧化锆和四方相氧化锆组成,当正向氧化电压为400 V时,氧化膜的PRF值达到最大值20.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈伟东	内蒙古工业大学材料科学与工程学院	34	100	6.0	8.0
2	闫淑芳	内蒙古工业大学材料科学与工程学院	33	91	5.0	7.0
3	张鹏飞	内蒙古工业大学材料科学与工程学院	36	226	9.0	14.0
5	王宏兴	西安交通大学宽禁带半导体材料与器件研究中心	3	2	1.0	1.0
6	李世江	内蒙古工业大学材料科学与工程学院	5	2	1.0	1.0
9	耿艳花	内蒙古工业大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0