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摘要:
制备了响应在太赫兹波段的台面型砷化镓(GaAs)基阻挡杂质带(BIB)探测器,并进行了背景电流的测试分析.采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺进行外延层生长,能更有效地控制吸收层的掺杂浓度,提高阻挡层的纯度.另外,搭建了GaAs基BIB探测器的低温测试系统,在3.4 K测试温度下,对器件施加-5~5 V偏压,测得300 K背景响应电流在10-2~10-6A量级.在低电流区,电流随偏压增加的速率相对较快;在高电流区,电流随偏压增加的速率变得相对平缓.且对于相同偏压绝对值,正偏压工作模式下的背景响应电流比负偏压工作模式下的背景电流高.基于测试结果,重点分析了GaAs基BIB探测器的光电输运机理.
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文献信息
篇名 新型台面型GaAs基BIB探测器的背景电流测试与分析
来源期刊 太赫兹科学与电子信息学报 学科 工学
关键词 砷化镓 阻挡杂质带探测器 外延工艺 背景响应电流 暗电流 太赫兹探测
年,卷(期) 2018,(3) 所属期刊栏目 太赫兹科学技术
研究方向 页码范围 383-387
页数 5页 分类号 TN324+.1
字数 1445字 语种 中文
DOI 10.11805/TKYDA201803.0383
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 潘鸣 中国电子科技集团公司第五十研究所 12 44 4.0 6.0
2 王兵兵 中国电子科技集团公司第五十研究所 2 11 1.0 2.0
3 尚竞成 杭州电子科技大学电子信息学院 2 3 1.0 1.0
5 王晓东 中国电子科技集团公司第五十研究所 8 19 3.0 4.0
8 陈雨璐 中国电子科技集团公司第五十研究所 1 1 1.0 1.0
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砷化镓
阻挡杂质带探测器
外延工艺
背景响应电流
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太赫兹探测
研究起点
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期刊影响力
太赫兹科学与电子信息学报
双月刊
2095-4980
51-1746/TN
大16开
四川绵阳919信箱532分箱
62-241
2003
chi
出版文献量(篇)
3051
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7
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11167
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