光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制

• 作者: 李美萱 王丽 董连和
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 深紫外光刻 光可变衰减器 截止滤光膜 光学镀膜
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 129-134
• 页数: 6页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201845.0103002

摘要

在超大规模集成电路中,为满足数值孔径为1.35、波长为193 nm的光刻曝光系统45 nm的成像分辨率要求,设计了一种新型光可变衰减器,用于控制系统的光能透射率,调整曝光能量.该衰减器在光入射角为20°～40°时,衰减面的平均透射率呈线性变化并从95％降低至8％,同时保证其余三个表面的光能损失均低于1％.设计和制作了光可变衰减器的光学薄膜,其基底材料选择熔融石英,膜层材料采用LaF3和AlF3.实验测试了光可变衰减器系统性能,测试结果显示该系统的光能透射率在8％～90％范围内连续可调,实验结果满足设计要求.与传统光可变衰减器相比,该系统可调制衰减范围更大,衰减量更稳定,具有一定的应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董连和		45	151	7.0	11.0
2	王丽		32	34	3.0	4.0
3	李美萱		22	61	4.0	7.0