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摘要:
原子通量是影响原子光刻技术制备纳米光栅质量的主要因素之一.应用原子炉管喷发量的理论模型,利用理论与实验相结合的方法,对比研究了三类典型原子炉管构型下的原子通量水平,并基于最优原子炉管构型将研制的铬纳米光栅峰谷高度提升到100 nm,使光栅质量得到进一步优化.
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文献信息
篇名 原子光刻中原子通量的优化研究
来源期刊 光学学报 学科 物理学
关键词 原子与分子物理学 纳米计量 传递标准 原子光刻 纳米光栅 原子通量
年,卷(期) 2018,(12) 所属期刊栏目 原子与分子物理学
研究方向 页码范围 20-24
页数 5页 分类号 O562
字数 语种 中文
DOI 10.3788/AOS201838.1202001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘杰 61 418 12.0 18.0
2 程鑫彬 12 52 4.0 7.0
3 李同保 41 130 7.0 8.0
4 陈杰 62 370 10.0 14.0
5 朱立 1 0 0.0 0.0
6 邓晓 5 6 2.0 2.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (43)
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研究主题发展历程
节点文献
原子与分子物理学
纳米计量
传递标准
原子光刻
纳米光栅
原子通量
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
半月刊
0253-2239
31-1252/O4
大16开
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
4-293
1981
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
总被引数(次)
130170
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