浸渍炭中铜氧化物的XPS研究

• 作者: 刘国宏 周晓东 温维丽 王娜 胡玉良 韩万飞
• 来源期刊: 广州化工
• 学科: 化学
• 关键词: 浸渍炭 X射线光电子能谱 铜氧化物 深度剖析 氢氰酸 氯化氰
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 分析测试
• 页码范围: 73-76
• 页数: 4页
• 分类号: O69
• 字数: 2374字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9677.2018.07.024

摘要

通过制备单一组分的铜浸渍炭(Cu-AC),应用X 射线光电子能谱(XPS)分析技术研究浸渍炭中铜氧化物的化学态及其随深度的变化.结果表明:浸渍炭表面的Cu主要以CuO化学态存在,内部主要以Cu2O化学态存在;浸渍炭防护HCN的反应在其表面和内部同时发生,而对ClCN的防毒作用主要在浸渍炭的表面进行.本研究为调控浸渍炭的制备工艺和生产条件提供参考,进一步提高防护性能、保证产品质量稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周晓东		16	21	2.0	4.0
2	温维丽		13	30	3.0	5.0
3	胡玉良		9	3	1.0	1.0
5	王娜		11	16	1.0	4.0
6	刘国宏		8	1	1.0	1.0
7	韩万飞		4	5	1.0	2.0