下颌前突成年患者下颌磨牙远中移动可用间隙研究

• 作者: 吴国涛
• 来源期刊: 中国保健营养
• 关键词: 磨牙后区间隙 磨牙远中移动 下颌前突 掩饰性治疗
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 临床研究
• 页码范围: 73-74
• 页数: 2页
• 字数: 3723字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-7484.2018.11.084

摘要

目的 :研究下颌前突患者下颌磨牙后区可用间隙.方法 :测量80位安氏 Ⅰ 类或 Ⅲ 类患者根分叉水平及根分叉下2mm,4mm,6mm水平上右侧下颌第二磨牙到下颌骨皮质内侧面的最短线性距离,比较组间距离并作混合线性模型分析.结果 :安氏 Ⅲ 类患者在根分叉下P0和P2深度上测量的磨牙后区距离明显大于安氏 Ⅰ 类患者.结论 :在下颌磨牙远中移动时,安氏 Ⅲ 类患者在下颌第二磨牙根分叉水平具有更大的磨牙后区可用间隙.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴国涛	合肥贝杰口腔医院正畸科	1	0	0.0	0.0