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摘要:
提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5 μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本.同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本.
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文献信息
篇名 一种低使用成本的高精度曝光和测量技术
来源期刊 光电子技术 学科 工学
关键词 曝光 长寸 测量 光罩 精度 成本
年,卷(期) 2019,(3) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 210-214
页数 5页 分类号 TP23|TH744
字数 语种 中文
DOI 10.19453/j.cnki.1005-488x.2019.03.010
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曝光
长寸
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期刊影响力
光电子技术
季刊
1005-488X
32-1347/TN
16开
南京中山东路524号(南京1601信箱43分箱)
1981
chi
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