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摘要:
设计并制作了非对称大光腔波导结构,利用分布布拉格反射技术,实现了980 nm波段高功率半导体激光器的稳定输出.在实验过程中,采用电子束光刻技术,结合感应耦合等离子刻蚀工艺,利用SiO2作为硬掩模,并通过减小Ar离子的束流来减弱刻蚀过程中由于物理轰击作用对SiO2硬掩模的消耗,制作出形貌良好、周期为890 nm、占空比为50%的分布布拉格反射器光栅;采用脊型波导激光器的制作工艺,成功制作出分布布拉格反射激光器,当器件注入电流15 A时,该激光器的输出功率高达10.7 W,斜率效率为0.73 W/A,器件阈值电流为0.95 A,中心波长为979.3 nm.该研究为GaAs基DBR半导体激光器的制作与研究提供了新思路.
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文献信息
篇名 980nm高功率DBR半导体激光器的设计及工艺
来源期刊 中国激光 学科 工学
关键词 激光器 半导体激光器 分布布拉格反射器 电子束光刻 高功率
年,卷(期) 2019,(7) 所属期刊栏目 激光器件与激光物理
研究方向 页码范围 8-12
页数 5页 分类号 TN305|TN365
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL201946.0701002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李翔 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 44 441 9.0 20.0
2 唐吉龙 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 2 0 0.0 0.0
3 房丹 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 2 0 0.0 0.0
4 苏瑞巩 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 2 0 0.0 0.0
5 张宝顺 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 13 29 3.0 5.0
6 魏志鹏 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 2 0 0.0 0.0
7 乔闯 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 1 0 0.0 0.0
8 方铉 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 1 0 0.0 0.0
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中国激光
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大16开
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1974
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