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三维传输子量子比特制备研究
三维传输子量子比特制备研究
作者:
刘奥谱
卢盛
吴培亨
孙国柱
曹春海
李永超
涂学凑
潘佳政
许伟伟
陈健
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Al/AlOx/Al
隧道结
三维传输子
量子比特
摘要:
研究了三维传输子(3D-transmon)量子比特的制备技术.采用电子束光刻技术制备亚微米双层胶悬空掩模,电子束斜蒸发技术制备Al/AlOJAl超导隧道结.将隧道结与三维谐振腔耦合,成功实现3D-transmon.在20 mK下测试了量子比特的能级跃迁频率、拉比振荡、能量弛豫时间t1等性能,t1约566 ns.t1较短的原因是量子比特跃迁频率与三维谐振腔频率接近,耦合过紧.
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文献信息
篇名
三维传输子量子比特制备研究
来源期刊
低温与超导
学科
物理学
关键词
Al/AlOx/Al
隧道结
三维传输子
量子比特
年,卷(期)
2019,(8)
所属期刊栏目
超导技术
研究方向
页码范围
28-32
页数
5页
分类号
O455
字数
语种
中文
DOI
10.16711/j.1001-7100.2019.08.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
许伟伟
69
148
6.0
9.0
2
吴培亨
93
237
8.0
12.0
3
陈健
73
202
7.0
11.0
4
曹春海
15
10
2.0
3.0
5
孙国柱
24
18
3.0
3.0
6
涂学凑
4
6
1.0
2.0
7
刘奥谱
2
0
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8
卢盛
1
0
0.0
0.0
9
李永超
6
4
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潘佳政
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节点文献
Al/AlOx/Al
隧道结
三维传输子
量子比特
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
低温与超导
主办单位:
中国电子科技集团公司第十六研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-7100
CN:
34-1059/O4
开本:
16开
出版地:
安徽省合肥市濉溪路439号安徽合肥市1019信箱
邮发代号:
26-40
创刊时间:
1973
语种:
chi
出版文献量(篇)
3386
总下载数(次)
10
总被引数(次)
13833
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