高PS材料制备及工艺研究

• 作者: 周海龙 张家祥 张文余 张芳 徐闪闪 焦宇 王威 王彦强 覃一锋 陈召 陈思 黄东升
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 液晶透镜 PS材料 高膜厚
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 236-240
• 页数: 5页
• 分类号: TN141.9
• 字数: 1834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20193403.0236

摘要

本文对高膜厚PS材料进行了研究,通过工艺优化,成功在G5线实现了60～120μm的高PS.通过前烘工艺和固化工艺优化调整,得到了无气泡、膜面良好的高PS材料.本文还对曝光量对PS影响进行了研究,发现曝光量低于50 mJ时,PS材料无法有效成型;当曝光量达到150 mJ时,得到形貌良好,达到设计值的PS.最后还对不同基底高PS材料进行了研究,发现未进行增粘处理时,SiN基底粘附性良好,Mo基底还需继续优化处理.