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基于BL0939的天线效应分析
基于BL0939的天线效应分析
作者:
王锁成
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电路设计
天线效应
天线比率
反偏二极管
深亚微米
摘要:
随着半导体工艺技术的发展,栅的特征尺寸越来越小,然而金属走线却越来越长,这就造成了与之相关的天线效应(PAE)越来越显著.分析在芯片制造过程中产生天线效应的原因,并在此基础上提出了四种消除天线效应的方法.其方法应用于BL0939的后端设计,证明了它的切实可行性.
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篇名
基于BL0939的天线效应分析
来源期刊
集成电路应用
学科
工学
关键词
集成电路设计
天线效应
天线比率
反偏二极管
深亚微米
年,卷(期)
2019,(10)
所属期刊栏目
研究与设计
研究方向
页码范围
11-13
页数
3页
分类号
TN402|TN432
字数
1619字
语种
中文
DOI
10.19339/j.issn.1674-2583.2019.10.005
五维指标
作者信息
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王锁成
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集成电路应用
主办单位:
上海贝岭股份有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-2583
CN:
31-1325/TN
开本:
16开
出版地:
上海宜山路810号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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