金属表面液相等离子体电解渗硼技术

• 作者: 杜建成 王彬 薛文斌 金小越
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体电解渗 渗硼 放电机理 摩擦磨损 腐蚀
• 年，卷（期）: 2019,（7）
• 所属期刊栏目: 专题——液相等离子体电解-微弧氧化表面改性技术
• 页码范围: 37-48
• 页数: 12页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 5799字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.07.004

摘要

金属表面液相等离子体电解渗技术包括等离子体电解渗碳、渗氮、渗硼等.它具有渗透效率高、工作电压低、处理工艺简单、成本低等优点.主要介绍了钢铁、钛等金属表面等离子体电解渗硼技术的最新进展,分析了它的放电过程和基本原理,研究了渗硼过程的光发射谱,并评估了等离子体放电区的电子温度、电子浓度特征参数.分析了渗硼层的生长过程和形成机理,探讨了金属基体成分、工作电压、处理温度和电解液的组成等关键参数,对渗硼层的显微组织和相成分的影响.最后简要探讨了等离子体电解渗硼技术目前存在的问题和后续的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛文斌	北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室	37	1416	17.0	37.0
3	王彬	山西农业大学文理学院	4	14	1.0	3.0
6	金小越	北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室	4	22	2.0	4.0
8	杜建成	北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室	10	137	7.0	10.0