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摘要:
化学镀镍是许多行业中广泛使用的镀层方法,然而,涂层的可用性受到与化学镀镍工艺相关的控制问题的限制.为了确保沉积质量,在电镀过程中应精确控制化学镀镍沉积物的超越性能,由于自发的、不稳定的反应和缺乏在线测量方法而使得这个问题具有挑战性.为了改善基于操作员的控制,提出了一种特殊的化学镀镍监测系统,系统特别针对用于电镀通孔(Plated-Through-Hole,PTH)板制造的化学镀镍工艺进行校准.该系统能够从镀镍工业的标准测量结果估计电镀工艺的电学、化学和沉积参数,同时还能够通过监督整个过程动态,即电化学过程来代替单独的参数监督.
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文献信息
篇名 基于计算机技术的化学镀镍工艺用浴槽沉积在线监测系统研究
来源期刊 微型电脑应用 学科 工学
关键词 化学镀镍工艺 化学镀镍监测系统 电镀 参数监督
年,卷(期) 2019,(12) 所属期刊栏目 基金项目
研究方向 页码范围 40-42
页数 3页 分类号 TP393
字数 2229字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-757X.2019.12.013
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 程瑶 陕西国际商贸学院信息工程学院 15 6 2.0 2.0
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化学镀镍工艺
化学镀镍监测系统
电镀
参数监督
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微型电脑应用
月刊
1007-757X
31-1634/TP
16开
上海市华山路1954号上海交通大学铸锻楼314室
4-506
1984
chi
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