近红外二区光声成像造影剂的研究进展

• 作者: 李万万 高科
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 医学
• 关键词: 有机半导体共轭聚合物 无机纳米材料 小分子有机染料 光声成像造影剂 近红外二区
• 年，卷（期）: 2019,（z1）
• 所属期刊栏目: 高分子与聚合物基复合材料
• 页码范围: 481-484
• 页数: 4页
• 分类号: R445
• 字数: 4390字
• 语种: 中文

摘要

光声成像是一种新兴的复合成像技术,其结合了光学成像灵敏度高和声学成像穿透深度大、成像分辨率高的特点,在生物成像领域具有广阔的应用前景,近年来发展迅速.光声成像基于光声效应,通过激光照射成像对象产生超声波,进而实现成像.利用近红外二区激光进行光声成像具有穿透深度大、背景噪声低、最大允许辐照能量高等优势,有利于实现深部组织高分辨成像.外源性光声成像造影剂能够局部增强组织吸收性能,增强光声信号,提升成像对比度.因此近红外二区外源性光声成像造影剂是实现深部组织光声成像的重要条件,近年来受到研究人员的广泛关注.然而,目前已有的光声成像相关报道主要集中在近红外一区,光声成像造影剂包括无机纳米材料和有机小分子等,其存在组织深度穿透有限、背景噪声明显等问题.关于近红外二区光声成像的报道十分有限,其主要原因是缺乏具备近红外二区吸收能力和光声转换能力的外源性光声成像造影剂.同时,成熟稳定的近红外二区光声成像系统也十分不足,阻碍了近红外二区光声成像造影剂的发展.本文归纳了近年来近红外二区光声成像造影剂的研究进展,主要包括有机半导体共轭聚合物、无机纳米材料、小分子有机染料等,重点介绍其制备方法、光吸收性能、光声成像能力,并对近红外二区光声成像造影剂的未来发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李万万	上海交通大学材料科学与工程学院	17	199	6.0	14.0
2	高科	上海交通大学材料科学与工程学院	2	0	0.0	0.0