电感耦合等离子体发射光谱法检测铸造Al-Si-Cu系合金中硅铜镧铈钪

• 作者: 李辉 王丹 王春浩
• 来源期刊: 天津冶金
• 关键词: 电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES) 铸造Al-Si-Cu系合金 稀土元素
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 理化检测与分析
• 页码范围: 61-63,73
• 页数: 4页
• 字数: 2092字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-110X.2020.02.018

摘要

采用两种比例的盐酸、硝酸、氢氟酸溶解样品,采用基体匹配法配制标准溶液系列以消除基体的影响,采用轴向观测方式提高了稀土元素的灵敏度,选择Si185.005nm、Cu327.395nm、La408.671nm、Ce399.924 nm、Sc361.383nm为分析线,使用电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)测定铸造Al-Si-Cu系合金中的硅铜镧铈钪.Si的质量分数在0.10％～15％范围内,Cu的质量分数在0.05％～8.0％范围内,La、Ce、Sc的质量分数在0.0005％～0.50％范围内,各元素质量分数与发射强度呈线性,相关系数>0.9997;检出限范围是0.00001％～0.0036％;测定结果的相对标准偏差<2.0％;加标回收率为92.5％～103.0％.方法简单、快速,测试结果令人满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李辉	中国科学院金属研究所	214	1637	20.0	32.0
2	王丹	中国科学院金属研究所	126	1834	24.0	38.0
3	王春浩	中国科学院金属研究所	2	0	0.0	0.0