纯相镍修复层的电化学制备及结构性能分析

• 作者: 刘萌 张志金 张明岐
• 来源期刊: 电加工与模具
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学沉积 纯相镍 修复层
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 电化学加工
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TG662
• 字数: 4336字
• 语种: 中文

摘要

采用电化学沉积法在GH3230板材基底上制备了纯立方相镍单质修复层,通过优化沉积条件,研究了沉积电位、沉积时间、沉积溶液的质量浓度及pH值对修复层结构和性能的影响.采用优化的沉积条件,制得的修复层表面致密平整、硬度高、与基底的结合力良好,适合于在高温合金基底上进行修复层的制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张明岐		12	14	2.0	3.0
2	张志金		6	11	2.0	3.0
3	刘萌		2	1	1.0	1.0