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摘要:
实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析.结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗电流的影响.结果 表明,二极管暗电流主要来自于体暗电流,而非表面漏电流.在工作点偏压90V处,受缺陷影响的缺陷辅助隧穿电流Itat在暗电流中占据了主导,并推算出了芯片结构的缺陷浓度Nt约为1019 m-3、吸收区中的缺陷浓度NInGaAs约为7×1015 m-3.由于芯片结构的缺陷主要来源于InAlAs/InAlGaAs倍增区和InGaAs吸收区,而吸收区缺陷占比很少,因此认为缺陷主要来自于异质结InAlAs/InAlGaAs倍增区.
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文献信息
篇名 级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管暗电流成分分析
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管 暗电流 表面漏电流 缺陷辅助隧穿电流 缺陷浓度
年,卷(期) 2020,(1) 所属期刊栏目 光电器件
研究方向 页码范围 20-24
页数 5页 分类号 TN312
字数 语种 中文
DOI 10.16818/j.issn1001-5868.2020.01.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 莫才平 4 29 1.0 4.0
2 高新江 10 94 6.0 9.0
3 张承 2 3 1.0 1.0
4 黄晓峰 3 3 1.0 1.0
5 迟殿鑫 2 3 1.0 1.0
6 唐艳 2 0 0.0 0.0
7 王立 1 0 0.0 0.0
8 柴松刚 1 0 0.0 0.0
9 崔大健 3 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管
暗电流
表面漏电流
缺陷辅助隧穿电流
缺陷浓度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
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