SiCl4冷氢化反应器床层密度的计算

• 作者: 李寿琴 杨楠 甘居富 程茂林 贾琳蔚 陈绍林
• 来源期刊: 四川化工
• 关键词: SiCl4 冷氢化 流化床 床层密度
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 分析与测试
• 页码范围: 36-38
• 页数: 3页
• 字数: 1208字
• 语种: 中文

摘要

通过理论计算临界流化速度umf和床层空隙率εe,得到SiCl4冷氢化流化床反应器在不同粒径dp和表观气速ue条件下的床层密度ρ.床层密度随着硅粉粒径增大而增大,随着表观气速增大而减小.通过实际测量一定高度床层间的压降得到实际床层密度,与理论计算值对比二者吻合性较好,冷氢化反应器的床层密度沿高度方向变化较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨楠		2	0	0.0	0.0
2	李寿琴		1	0	0.0	0.0
3	程茂林		1	0	0.0	0.0
4	陈绍林		1	0	0.0	0.0
5	贾琳蔚		1	0	0.0	0.0
6	甘居富		2	0	0.0	0.0