基于光楔的并行受激发射损耗荧光擦除图案产生方法

• 作者: 冯继宏 张硕晨
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 医用光学 荧光显微镜 并行受激发射损耗 荧光擦除图案 光楔 几何光学 数值仿真
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: “六十载激光与生物医学的融合发展”专题
• 页码范围: 347-353
• 页数: 7页
• 分类号: TH742
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202047.0207031

摘要

提出了一种基于光楔的全新的并行荧光擦除图案产生方法,使用光楔及配套反光镜来调控损耗光束入射辅助物镜时的物方倾斜角,可充分利用显微物镜的数值孔径,产生出周期更小的并行荧光擦除图案.仿真结果显示:当使用数值孔径为1.4的显微物镜且损耗光波长为760 nm时,所提方法能产生出周期为282.0 nm×283.6 nm的正方形网格状并行荧光擦除图案,能实现更高的成像分辨率.