紫外光芬顿-膜分离耦合体系降解金霉素

• 作者: 向鑫鑫 姚宏 孙绍斌 张战胜 张旭 薛宏慧 鲁垠涛
• 来源期刊: 中国环境科学
• 学科: 地球科学
• 关键词: 非均相光芬顿 金霉素 陶瓷膜 膜分离 降解机理
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 水污染与控制
• 页码范围: 1577-1585
• 页数: 9页
• 分类号: X703.5
• 字数: 4721字
• 语种: 中文

摘要

以金霉素为降解对象,采用沉淀法制备α-FeOOH光催化剂,进一步将其用共价结合法负载在陶瓷膜上,用SEM、XRD、EDS、UV-Vis和FTIR对α-FeOOH和光催化陶瓷膜进行表征.结果表明催化剂α-FeOOH呈针状或纺锤长片状,长宽分别为500～550nm、25～50nm,经α-FeOOH改性的陶瓷膜孔隙率由14.83％变为8.11％.研究光芬顿陶瓷膜耦合体系对金霉素的降解效率和动力学行为,确定了光芬顿陶瓷膜耦合体系的最优降解条件为金霉素初始浓度50mg/L,H2O2投加浓度10mmol/L,UV强度为3796.6μW/cm2.进一步利用UV-Vis光谱分析了两种体系对金霉素的降解机理,光催化剂体系下,H2O2的浓度基本保持不变,而光芬顿陶瓷膜耦合体系下H2O2的浓度先升后降,同时后者在同一时间点对TOC和NH4+-N去除率更高,表明光芬顿陶瓷膜耦合体系氧化能力更强,对金霉素的降解更为彻底.