不同电压下制备等厚微弧氧化膜层的能耗及膜层的耐蚀性

• 作者: 孙乐 安凌云 梁志龙 王占营 王晟 马颖
• 来源期刊: 兰州理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 膜层厚度 能耗 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: TG174
• 字数: 2932字
• 语种: 中文

摘要

首先对硅酸盐体系中的AZ91D镁合金进行微弧氧化处理,然后通过调节电压制备厚度均为25μm和厚度均为40μm的两组微弧氧化膜层,并针对这两组等厚度膜层的制备时间、能耗、质量厚度比及耐蚀性随电压的变化规律等进行对比研究.结果表明:随着电压的增大,两组等厚度膜层的制备时间均缩短,能耗均降低.相对于厚度均为25μm的膜层,厚度均为40μm的膜层的制备时间更长、能耗更大,同时因40μm膜层较低的致密性,其在氯化钠介质中的耐蚀性较差,但其较厚的厚度使得膜层在硝酸介质中显现出更为优异的耐蚀性能.