用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制

• 作者: 刘全 吴建宏 陈新华 鲁金超 黄爽爽
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 全息光刻 相位掩模 严格耦合波理论 离子束刻蚀 衍射效率
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 844-850
• 页数: 7页
• 分类号: TN253|TN305.7
• 字数: 2734字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20202804.0844

摘要

利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32～0.43之间,槽形深度在0.57～0.67 μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2％以内,同时±1级的衍射效率大于35％.在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1 067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模.实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665 μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响.实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2％,±1级衍射效率大于40％,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要.