高浓度纳米二氧化硅浆料Zeta电位的测量

• 作者: 厉艳君 吴立敏 周莹 郝玉红 郝萍 陈鹰
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化硅浆料 Zeta电位 电泳光散射法 硅溶胶 抛光液
• 年，卷（期）: 2020,（11）
• 所属期刊栏目: 试验技术与方法
• 页码范围: 19-24,30
• 页数: 7页
• 分类号: O657.99
• 语种: 中文
• DOI: 10.11973/lhjy-wl202011005

摘要

高浓度纳米二氧化硅浆料是晶圆化学机械抛光的常用磨料,保持浆料中高浓度纳米颗粒悬浮液体系的分散稳定是关键技术,通常用Zeta电位来表征,而高浓度浆料的Zeta电位测量仍存在较多问题.采用电泳光散射法,通过稀释和离心方式降低浆料浓度来测量高浓度纳米二氧化硅浆料Zeta电位,并研究了该方法的可行性.结果表明:可以保持颗粒表面和溶液间化学平衡的原液平衡稀释法是准确测量高浓度样品Zeta电位的基础;对于较难获得上层清液的高浓度浆料的稀释,离心以降低颗粒浓度的样品制备方法可快速而准确地获得Zeta电位测量结果;在同一分散体系下,Zeta电位测量值与分散体系中颗粒粒径大小无关.