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摘要:
采用卷对卷涂布机湿法涂布制备的银纳米线薄膜,其薄膜方阻可低至40Ω/□以下,在400~700 nm可见光波段透过率89%以上,环境测试性能稳定,高温高湿及抗紫外(QUV)测试,方阻变化率小于15%,耐弯折性能优异,可满足触控设备的柔性化,大尺寸化的发展需求.同时研究发现,采用黄光湿法刻蚀银纳米线薄膜,传统刻蚀液无法有效刻蚀银线.采用激光干法刻蚀时,刻蚀沟道宽度与银线长度相当,则存在沟道阻抗变化较大的问题.这些问题阻碍了银纳米线薄膜的产业化应用,需尽快解决,使银纳米线薄膜真正成为柔性化可穿戴触控设备的重要透明导电材料.
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内容分析
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文献信息
篇名 银纳米线透明导电薄膜在触控单元的应用与挑战
来源期刊 陕西煤炭 学科 工学
关键词 银纳米线薄膜 低阻高透 耐弯折 刻蚀沟道
年,卷(期) 2020,(z1) 所属期刊栏目 问题探讨
研究方向 页码范围 80-82,87
页数 4页 分类号 TB383
字数 1754字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 田占元 15 33 2.0 5.0
2 魏葳 5 2 1.0 1.0
3 张晓东 3 2 1.0 1.0
4 杨钊 3 2 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
银纳米线薄膜
低阻高透
耐弯折
刻蚀沟道
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
陕西煤炭
双月刊
1671-749X
61-1382/TD
大16开
西安市碑林区太乙路182号陕煤重装大厦5011室
1982
chi
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