紫外激光波长(266 nm)多孔二氧化硅减反膜

• 作者: 沈斌 熊怀 张旭 李海元
• 来源期刊: 光学学报
• 关键词: 材料 溶胶凝胶 减反膜 二氧化硅 四倍频
• 年，卷（期）: 2020,（22）
• 所属期刊栏目: 材料|Materials
• 页码范围: 164-170
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202040.2216001

摘要

以正硅酸乙酯作为前驱体,乙醇作为溶剂,氨水作为催化剂,在碱催化体系下制备了高分散的SiO2溶胶;然后采用提拉法在不同浓度的SiO2溶胶涂膜液中制备了四倍频266 nm波长增透的SiO2减反膜,并对各膜层的性能进行了测试.测试结果表明:在浓度最大的SiO2溶胶中以4.5 cm·min-1的提拉速度制备得到的四倍频SiO2减反膜的性能最优,其在266 nm处的透过率达到了99.307％,表面粗糙度为1.339 nm,且透过率稳定性优异.