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紫外激光波长(266 nm)多孔二氧化硅减反膜
紫外激光波长(266 nm)多孔二氧化硅减反膜
作者:
沈斌
熊怀
张旭
李海元
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
材料
溶胶凝胶
减反膜
二氧化硅
四倍频
摘要:
以正硅酸乙酯作为前驱体,乙醇作为溶剂,氨水作为催化剂,在碱催化体系下制备了高分散的SiO2溶胶;然后采用提拉法在不同浓度的SiO2溶胶涂膜液中制备了四倍频266 nm波长增透的SiO2减反膜,并对各膜层的性能进行了测试.测试结果表明:在浓度最大的SiO2溶胶中以4.5 cm·min-1的提拉速度制备得到的四倍频SiO2减反膜的性能最优,其在266 nm处的透过率达到了99.307%,表面粗糙度为1.339 nm,且透过率稳定性优异.
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文献信息
篇名
紫外激光波长(266 nm)多孔二氧化硅减反膜
来源期刊
光学学报
学科
关键词
材料
溶胶凝胶
减反膜
二氧化硅
四倍频
年,卷(期)
2020,(22)
所属期刊栏目
材料|Materials
研究方向
页码范围
164-170
页数
7页
分类号
O484.4
字数
语种
中文
DOI
10.3788/AOS202040.2216001
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减反膜
二氧化硅
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
光学学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
0253-2239
CN:
31-1252/O4
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮发代号:
4-293
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
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