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摘要:
The ε-Ga2O3 p-n heterojunctions (HJ) have been demonstrated using typical p-type oxide semiconductors (NiO or SnO).The ε-Ga2O3 thin film was heteroepitaxial grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) with threestep growth method.The polycrystalline SnO and NiO thin films were deposited on the ε-Ga2O3 thin film by electron-beam evaporation and thermal oxidation,respectively.The valence band offsets (VBO) were determined by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) to be 2.17 eV at SnO/ε-Ga2O3 and 1.7 eV at NiO/ε-GaaO3.Considering the bandgaps determined by ultraviolet-visible spectroscopy,the conduction band offsets (CBO) of 0.11 eV at SnO/ε-Ga2O3 and 0.44 eV at NiO/ε-Ga2O3 were obtained.The type-Ⅱ band diagrams have been drawn for both p-n HJs.The results are useful to understand the electronic structures at the ε-Ga2O3 p-n HJ interface,and design optoelectronic devices based on ε-Ga2O3 with novel functionality and improved performance.
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文献信息
篇名 Band alignment of p-type oxide/e-Ga2O3 heterojunctions investigated by x-ray photoelectron spectroscopy
来源期刊 中国物理B(英文版) 学科
关键词
年,卷(期) 2020,(9) 所属期刊栏目 CONDENSED MATTER: ELECTRONIC STRUCTURE, ELECTRICAL, MAGNETIC, AND OPTICAL PROPERTIES
研究方向 页码范围 534-540
页数 7页 分类号
字数 语种 英文
DOI 10.1088/1674-1056/ab9c0d
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中国物理B(英文版)
月刊
1674-1056
11-5639/O4
北京市中关村中国科学院物理研究所内
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