基于正交方法的射线检测暗室处理技术的试验

• 作者: 沈胜涛
• 来源期刊: 大科技
• 学科: 物理学
• 关键词: 暗室处理 影响因素 温度 时间
• 年，卷（期）: 2020,（27）
• 所属期刊栏目: 研究园地
• 页码范围: 273-274
• 页数: 2页
• 分类号: O434.1
• 字数: 1686字
• 语种: 中文

摘要

本文针对射线检测暗室处理技术的影响因素,以显影、定影作为主要影响指标,采用正交试验法分析了在不同的显影温度、显影时间和定影温度下对底片质量的影响.确定了对是影响暗室处理技术的最优组合.试验通过对每组胶片进行对比得到的结果表明:在显影温度20℃,显影时间5min,定影温度24℃的情况下,得到底片灵敏度最高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈胜涛		3	0	0.0	0.0