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某双风扇对流烤箱温度场均匀性研究
某双风扇对流烤箱温度场均匀性研究
作者:
邓洋
唐相伟
孙炎军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
烤箱
双风扇对流
温度场
数值模拟
实验研究
摘要:
强制对流烤箱作为一种常见的烘焙工具,其温度场的均匀性是衡量其性能的重要指标,通过对某双风扇对流烤箱温度场均匀性的研究发现:(1)用特氟龙块模拟食物,仿真得到的方差和实验测得的极差吻合较好,可用来反映腔体的温度场均匀性;(2)对比单风扇腔体温度场的均匀性,双风扇同顺时针旋转可提升30%左右;(3)双风扇左顺右逆旋转比双风扇同顺时针旋转腔体中心升温速度提升17%左右,且双风扇左顺右逆旋转时,腔体中心区域的热量聚集可加速烹饪体积较大的食材.
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文献信息
篇名
某双风扇对流烤箱温度场均匀性研究
来源期刊
家电科技
学科
关键词
烤箱
双风扇对流
温度场
数值模拟
实验研究
年,卷(期)
2021,(1)
所属期刊栏目
论文|Articles
研究方向
页码范围
40-43
页数
4页
分类号
TM925
字数
语种
中文
DOI
10.19784/j.cnki.issn1672-0172.2021.01.006
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烤箱
双风扇对流
温度场
数值模拟
实验研究
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
家电科技
主办单位:
中国家用电器研究院
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-0172
CN:
11-4824/TM
开本:
大16开
出版地:
北京市宣武区下斜街29号
邮发代号:
2-129
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
9328
总下载数(次)
11
总被引数(次)
7982
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