微细阵列结构电子束加工试验研究

• 作者: 颜泽林 马志兵 汪炜
• 来源期刊: 电加工与模具
• 关键词: 电子束曝光 抗蚀剂 工艺参数 阵列微孔 阵列微槽
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 超声加工及其他特种加工
• 页码范围: 61-65
• 页数: 5页
• 分类号: TG664
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-279X.2021.03.011

摘要

基于电子束曝光基本理论和工艺原理,以涂覆有PMMA抗蚀剂的石英玻璃为研究对象,采用电子束曝光制备微细阵列结构,研究不同工艺参数对曝光微细阵列孔和阵列槽结构的影响.结果表明,在PMMA薄膜厚度250 nm、曝光剂量400 pAs/cm2、显影时间120 s的条件下,可制备出直径2μm的阵列微孔结构;在PMMA薄膜厚度225 nm、曝光剂量500 pAs/cm2、显影时间90 s的条件下,可制备出宽度1μm、间距50μm的阵列微槽结构.