氨水-六甲基二硅胺烷对SiO2化学膜环境稳定性的影响

• 作者: 陈西兵 蒋晓东 曹林洪 符亚军 严鸿维 晏良宏
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 关键词: 溶胶-凝胶技术 SiO2化学膜 氨水-HMDS 邻苯二甲酸二丁酯 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 强激光物理与技术|High Power Laser Physics and Technology
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: O648.16
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB202133.200317

摘要

针对溶胶-凝胶技术制备的单层SiO2化学膜,在室温下研究氨水-六甲基二硅胺烷(HMDS)气氛的量对膜层改性的影响,并在低真空条件下测试了其抗邻苯二甲酸二丁酯(DBP)污染性能.采用紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)、红外光谱仪和原子力显微镜分析了改性前后化学膜特性的演变.研究结果表明:经过DBP污染后,15～30 mL氨水-HMDS改性后化学膜的峰值透过率为99.8％,较改性前化学膜的峰值透过率提升了3.5％,此时化学膜表现出优异的抗污染特性.但是,随着氨水-HMDS处理量的进一步增多,化学膜的激光损伤阈值由改性前的的24.32 J/cm2降到19.36 J/cm2.本研究有助于优化改性参数,以提高化学膜的抗污染性能,在实际工程应用中具有重要的价值.