掩模可制造性规则检查的研究

• 作者: 魏晓群 谢旦艳 华卫群
• 来源期刊: 电子与封装
• 关键词: 参数设置 曝光效果 筛选
• 年，卷（期）: 2021,（9）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性|Microelectronics Fabrication & Reliability
• 页码范围: 62-65
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0910

摘要

掩模可制造性规则检查(Manufacturing Rule Check,MRC)指在完成掩模数据处理后对最终制版图形进行一次规则检查,按设定的制造规则抓出不符合制造规范的图形.数据处理人员需要对抓出的图形进行人工筛选后告知客户.通常由于抓取出的图形种类多、数量多,MRC运行与人工筛选会花费大量时间.对可制造性规则检查的参数设置进行研究,通过参数设置的变化对MRC图形抓取和运行时间的影响进行比较试验,验证了可以利用参数设置减少MRC运行时间与抓取图形的数量.并且通过对加完修正参数之后图形效果的实验研究,验证毛刺等MRC图形在版上未产生实际图形效果,可以忽略.最终达到MRC检查运行与筛选整体时效性的提升.