UV/CeO2耦合Oxone深度处理制药废水的研究

• 作者: 王文富 华琼 王程豫 赵晓辉 郑宾国
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 紫外光 二氧化铈 Oxone试剂 制药废水
• 年，卷（期）: 2022,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 146-150
• 页数: 4页
• 分类号: X703.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.19965/j.cnki.iwt.2021-0853

摘要

本研究通过简便的水热和煅烧两步法合成了CeO2，采用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）对CeO2的微观形貌和晶型结构进行了表征；为提高实际制药废水深度氧化处理的效果，Oxone试剂被引入UV/CeO2氧化体系。研究结果表明，UV辐照协同CeO2可高效活化Oxone试剂产生SO4·-、SO5·-和·OH等多种活性氧化物质，实现制药废水深度氧化的目的；溶液pH、Oxone用量、CeO2用量、反应温度等因素影响制药废水COD和TOC的去除效果，在制药废水初始COD为326mg/L、TOC为132.6mg/L、Oxone质量浓度为1.0g/L、CeO2质量浓度为0.6g/L、pH为6.86、温度为30℃、反应时间为60min时，UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺对实际制药废水COD的去除率达到90.21%，TOC去除率为76.99%。UV/CeO2耦合Oxone氧化具有潜在的工业应用前景。