硅片基底表面修饰及浸润性变化

• 作者: 张肖 周玉雪 杜晓蕊
• 来源期刊: 广东化工
• 学科: 化学
• 关键词: 硅片 表面 浸润 DNA 侧向力
• 年，卷（期）: 2022,（2）
• 所属期刊栏目: 试验与研究|Experiment & research
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: O647.11
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1865.2022.02.002

摘要

固体表面的浸润性是自然界普遍存在的一种性质,在人们的日常生活、工业和农业中具有重要的作用.液体对在固体界面的浸润行为源于固体的表面能和微纳米结构.基于自然界生物的浸润行为,人们对特殊浸润性的功能表面产生了极大地兴趣.近几年来,有关特殊浸润性表面的研究取得了不错的进展.在此,我们讨论了硅片基底表面修饰及其浸润性的变化.通过在超亲水的硅片基底上依次修饰氨基、含3A链的deoxyribonucleic acid(DNA)分子及含氟荧光基团的DNA分子,基底表面的浸润性发生变化.通过侧向力和原子力显微镜测试,表明具有疏水性的表面,侧向力会变小;而当表面具有亲水性时,侧向力变大.