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微电子制造学报2019年第4期出版文献
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微电子制造学报
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Journal of Microelectronic Manufacturing (JoMM)是由中国科学院微电子研究所、国科大微电子学院联合创办的国际全英文学术期刊,旨在发表集成电路制造领域中从基础研究阶段到工业大规模量产阶段的研究成果,内容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipmen...
更多
主办单位:
中国科学院微电子研究所
ISSN:
2578-3769
CN:
出版周期:
季刊
邮编:
100029
地址:
北京市北土城西路3号中科院微电子研究所
出版文献量(篇)
47
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1.
Generative Learning in VLSI Design for Manufacturability: Current Status and Future Directions
作者:
David Z.Pan Mohamed Baker Alawieh Wei Ye Yibo Lin
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
1-12
摘要:
With the continuous scaling of integrated circuit technologies,design for manufacturability(DFM...
2.
Dual Micro-power 150mA Ultra LDO CMOS Regulator with Fast Startup
作者:
Hai-Shi Wang Peng Zheng
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
13-17
摘要:
This paper presents a dual micro-power 150mA ultra LDO CMOS regulator,which is designed for hig...
3.
Novel Pattern-Centric Solution for Xtacking^TM AFM Metrology
作者:
Abhishek Vikram Gao Xu Guojie Chen Jian Mi Liming Zhang Pan Liu Sicong Wang
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
18-21
摘要:
3D NAND(three-dimensional NAND type)has rapidly become the standard technology for enterprise f...
4.
Self-assembly of Blended PS-b-P2VP Block Copolymers
作者:
Baolin Zhang Shisheng Xiong Yu Chen
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
22-28
摘要:
Directed Self-Assembly(DSA)of block copolymers(BCPs)is a promising technique for sub-10 nm nano...
5.
The Effect of Fin Structure in 5 nm FinFET Technology
作者:
Enming Shang Shaojian Hu Shoumian Chen Wenqiao Chen Yu Ding
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
29-32
摘要:
In 5 nm technology node,FinFET device performance is sensitive to the dimension of the device s...
6.
A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns in 5 nm Logic Process with EUV Photolithographic Process
作者:
Qiang Wu Shoumian Chen Yanli Li
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
33-39
摘要:
5 nm logic technology node is believed to be the first node that will adopt Extremely Ultra-Vio...
7.
White Light Interference Solution for Novel 3D NAND VIA Dishing Metrology
作者:
Chi Chen Le Yang Sicong Wang Xiaoye Ding Yanzhong Ma Yi Zhou
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
40-44
摘要:
In traditional 3D NAND design,peripheral circuit accounts for 20-30%of the chip realestate,whic...
8.
A Photolithography Process Design for 5 nm Logic Process Flow
作者:
Qiang Wu Yanli Li Yuhang Zhao Yushu Yang
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
45-55
摘要:
With the introduction of EUV lithography,the photolithographic process in 5 nm logic process ca...
9.
Current Status of the Integrated Circuit Industry in China--Packaging and Testing Industry Review
作者:
刊名:
微电子制造学报
发表期刊:
2019年4期
页码: 
56-62
摘要:
Editorial Introduction:China's IC industry has been flourishing in recent years,huge market dem...
微电子制造学报基本信息
刊名
微电子制造学报
主编
叶天春
曾用名
主办单位
中国科学院微电子研究所
主管单位
中国科学院
出版周期
季刊
语种
ISSN
2578-3769
CN
邮编
100029
电子邮箱
jomm@jommpublish.org
电话
010-829957
网址
地址
北京市北土城西路3号中科院微电子研究所
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