薄膜科学与技术1993年第4期出版文献-钛学术文献服务平台

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薄膜科学与技术

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主办单位：

南京电子器件研究所

ISSN：

CN：

出版周期：

双月刊

邮编：

210016

地址：

南京1601信箱43分箱

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1. TiN薄膜压入过程的开裂方式及其影响因素

作者：徐可为郑森林

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 263-270

摘要：
2. Co—Cr膜成分,微结构和垂直磁化间的关系

作者：武庆兰潘国宏

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 271-276

摘要：
3. A1N陶瓷基材上金刚石膜的沉积及显微结构研究

作者：陈岩黄荣芳

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 277-282

摘要：
4. 氧对反应溅射非晶金属陶恣薄膜结构和性能的影响

作者：吴建生王家敏

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 283-288

摘要：
5. 酞菁铜薄膜及其气敏特性的研究

作者：傅敏恭龙定华

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 289-293

摘要：
6. 镍基单晶薄膜的组织结构研究

作者：于熙泓张静华

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 294-300

摘要：
7. α—Si：H TFT的稳定性及热平衡机制

作者：闫宝杰陈忠

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 301-306

摘要：
8. 采用稳定层流压制单分子层膜的LB膜槽的研究

作者：陆祖宏顾宁

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 307-313

摘要：
9. 中位取代两亲性卟啉LB膜的结构研究

作者：吴萱阶熊贵光

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 314-317

摘要：
10. 酞菁钴和酞菁铜LB薄膜气敏特性研究

作者：李亚君范翊

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 318-321

摘要：
11. 酞菁铜LB膜气敏特性老化研究

作者：吕安德张立功

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 322-325

摘要：
12. 有机,无机复合高分子超微粒LB膜的研究

作者：彭笑刚高明远

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 326-331

摘要：
13. 缬氨霉素／花生酸共混LB膜的制备及其结构表征

作者：崔大付蔡新霞

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 332-335

摘要：
14. 一种新型电荷转移复合物导电LB膜的研究

作者：姚钟麒肖玉方

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 336-341

摘要：
15. 电沉积紫膜薄层的特性

作者：施桦王敖金

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 342-346

摘要：
16. 半导体多层膜组分的AES和SIMS深度剖面分析

作者：崔玉德王佑祥

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1993年4期

页码: 347-352

摘要：

薄膜科学与技术基本信息

刊名	薄膜科学与技术	主编
曾用名
主办单位	南京电子器件研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种
ISSN		CN
邮编	210016	电子邮箱
电话		网址
地址	南京1601信箱43分箱

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